離子鍍

1.定義

蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結合。一種離子鍍系統如圖4[離子鍍系統示意圖]

2.原理

蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氬氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周?chē)纬梢坏入x子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

3.分類(lèi)

①  磁控濺射離子鍍

②  反應離子鍍

③  空心陰極放電離子鍍

④  多弧離子鍍。